脉冲激光沉积系统 (Pulsed Laser Deposition System) 详细指标款式欢迎咨询
指标与特点(PDF)
PLD-203S-2 PLD-202-2 PLD-102S-1
RF离子源活化系统 RHEED反射式高能电子衍射仪 RHEED图像分析系统
设备名称 | 脉冲激光沉积系统(Laser MBE) | 备注 |
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型号 | PLD-203S-2 (镀膜室+准备室+RHEED) | |
镀膜室 | 340(ID)X500(H) mm, 电解抛光 | 外缠加热丝 |
自公转靶 | φ1英寸 5个 (相互之间防污染) | 尺寸数量可调整 |
加热器 | 抗氧化型陶瓷加热器、温度高于1200℃ | 可选择其它加热形式 |
衬底 | φ1英寸,温度高于900,5轴位移台 | 衬底尺寸可以调整 |
真空度 | 小于5X10-6Pa以下 (镀膜室) | 可选择抽气方式 |
工作气体 | 2路、质量流量计控制 | 根据需要可调整 |
准备室 | 真空度小于5X10-5Pa,磁力传送机构 | 可增添其它机构 |
选配 | RHEED图像处理软件,活化离子源,红外温度仪,镀膜软件等 | |
尺寸及电源 | 尺寸:150(长)X120(宽)X200(高) CM 电源:单相 220V 60A |
磁控溅射镀膜设备 (Sputtering System) 详细指标款式欢迎咨询
设备名称 | 磁控溅射镀膜设备 (标准型) | 备注 |
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型号 | ASP-323-1 (镀膜室+准备室) | |
镀膜室 | 380(ID)X400(H)mm | 表面喷砂、水冷 |
水冷磁控靶 | 直径2英寸 3台 | 配自动挡板 |
磁控电源 | RF电源500W 自动匹配器 1台 | 电源可切换、功率数 量可调整 |
DC电源800V 1000W 1台 | ||
衬底 | 直径3英寸、加热温度高于500℃ | 轴向位移台 S=100 |
真空度 | 小于5X10-5Pa (镀膜室) | 可选择抽气方式 |
工作气体 | 3路、质量流量计控制 | 根据需要可调整 |
准备室 | 真空度小于5X10-5Pa、传送机构、公用初级泵等 | |
尺寸及电源 | 150(长)X120(宽)X180(高) CM 电源:单相 220V 60A |
电子器件制备系统 (Electric Device Fabrication System) 详细指标款式欢迎咨询
设备名称 | 小型电子器件制备系统 | 备注 |
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型号 | SOED-50-3 (热蒸发+磁控溅射+GB) | |
蒸发室 | 210(ID)X300(H)mm, 表面喷砂 | 上盖自由开关 |
蒸发源 | 2套蒸发舟或钨丝,两套电源 | 蒸发源种类可更换 |
磁控靶电源 | φ1.3”磁控靶,300W直流电源 1套 | 可选择射频电源 |
衬底 | 50×50 mm, | 可选配加熱or水冷 |
真空度 | 小于5X10-5Pa | 可选择抽气方式 |
手套箱(GB) | 惰性气体循环(与蒸发室相连接) | 箱体大小可选择 |
选配 | 膜厚仪等 | 根据需要可增配 |
尺寸及电源 | 180(长)X120(宽)X190(高) CM 电源:单相 220V 50A |
电子束蒸发设备 (Electron Beam Evaporation) 详细指标款式欢迎咨询
设备名称 | 电子束蒸发设备(3连E型) | 备注 |
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型号 | SEB-31-4 | |
蒸发室 | 330(ID)X600(H) mm, 电解抛光 | 外缠水冷管 |
电子枪 | 2KW 3连E型, 坩埚容量1ml | 电子枪型号可调整 |
加熱器 | 石英灯加热、温度高于500℃ | 可选择其它加热方式 |
衬底 | φ2英寸 ,有挡板 | 衬底自转 |
真空度 | 小于7.5X10-6Pa | 可选择抽气方式 |
膜厚計 | 在线监控膜厚 | 根据需要可调整 |
其它 | 快开门、观察窗、安全锁 | |
选配 | 准备室、辅助离子源等 | 根据需要选配 |
尺寸及电源 | 150(长)X120(宽)X190(高) CM 电源:单相 220V 50A |
双离子源沉积系统 (Dual Ion Source Deposition System) 详细指标款式欢迎咨询
设备名称 | 双离子源沉积系统 | 备注 |
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型号 | AIBD-464-1 | 适用于低温成膜、致密 |
蒸发室 | 560(ID)X460(H)mm | 电解抛光、外缠水冷管 |
溅射离子源 | 离子束1200V,363mA | 考夫曼离子源 |
辅助离子源 | 离子束1200V,130mA | 考夫曼离子源 |
靶 | 4面6英寸方形靶,水冷结构 | 公转换靶 |
衬底 | 直径4英寸、加热温度高于500℃ | 衬底自转、配自动挡板 |
真空度 | 小于5X10-5Pa | 可选择抽气方式 |
选配 | 准备室,膜厚仪等 | 根据需要选配 |
尺寸及电源 | 240(长)X150(宽)X210(高) CM 電源:単相 200V 60A |
VOC标准气体配制及测试系统 (VOC Standard Gas Generation System) 详细指标款式欢迎咨询
设备名称 | VOC标准气体配制及测试系统 | 备注 |
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型号 | ANPD-1B-12 | |
测试腔体 | 170(W)X80(D)X20(H)mm | 材质SUS304,电解抛光 |
腔体加热 | 300℃,温度稳定,有过热保护 | 任意两点在线温度监测 |
加热器 | 柔性外套式加热器、最高400℃ | 安装拆卸简单方便 |
配气设备 | 气体调制设备、渗透管、扩散管 | 可供选择多种配气管 |
特点 | 调制从ppb~ppm不同浓度的各种VOC标准气体和混合气体 | 特别适合一些不稳定VOC气体的连续配制 |
选配 | 尾气处理、检测管等 | 根据需要选配 |
尺寸及电源 | 150(长)X70(宽)X110(高) CM 电源:单相 220V 20A |
真空感应溶解炉 (Vacuum Induction Melting Furnaces) 详细指标款式欢迎咨询
设备名称 | 真空感应溶解炉 | 备注 |
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型号 | AVMF-1-12 | |
溶解室 | φ400(ID)×500(H)mm,前开门 | 材质SUS304,外壁水冷 |
溶解量 | 1kg | 铁换算量 |
溶解温度 | 高于1700℃ | 根据需要温度可以调整 |
溶解炉 | 铜制高频感应线圈,坩埚(材质可选择) | 铸造模具(选配) |
极限真空 | 小于5.0×10-3Pa | 没有材料,除气后常温下 |
其它 | 真空抽气系统、高频感应加热电源、安全保护措施等 | |
特点 | 本设备在真空或惰性气体气氛中,用感应加热来溶解、铸造各种金属或合金。 ■设备紧凑性价比高,适合于研发。 ■设备前面大型门窗,操作维护方便。 |
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设置环境 | 安装尺寸:200(长)X200(宽)X180(高) CM 冷却水: 0.13~0.15MPa, 50L/min 电源: 三相 200V 20KVA |