设备

脉冲激光沉积系统 (Pulsed Laser Deposition System) 详细指标款式欢迎咨询

脉冲激光沉积系统

设备名称 脉冲激光沉积系统(Laser MBE) 备注
型号 PLD-203S-2 (镀膜室+准备室+RHEED)  
镀膜室 340(ID)X500(H) mm, 电解抛光 外缠加热丝
自公转靶 φ1英寸 5个 (相互之间防污染) 尺寸数量可调整
加热器 抗氧化型陶瓷加热器、温度高于1200℃ 可选择其它加热形式
衬底 φ1英寸,温度高于900,5轴位移台 衬底尺寸可以调整
真空度 小于5X10-6Pa以下 (镀膜室) 可选择抽气方式
工作气体 2路、质量流量计控制 根据需要可调整
准备室 真空度小于5X10-5Pa,磁力传送机构 可增添其它机构
选配 RHEED图像处理软件,活化离子源,红外温度仪,镀膜软件等
尺寸及电源 尺寸:150(长)X120(宽)X200(高) CM 电源:单相 220V 60A

磁控溅射镀膜设备 (Sputtering System) 详细指标款式欢迎咨询

指标与特点(PDF)

ASP-323-1 ASP-443-2

磁控溅射镀膜设备

设备名称 磁控溅射镀膜设备 (标准型) 备注
型号 ASP-323-1 (镀膜室+准备室)  
镀膜室 380(ID)X400(H)mm 表面喷砂、水冷
水冷磁控靶 直径2英寸 3台 配自动挡板
磁控电源 RF电源500W 自动匹配器 1台 电源可切换、功率数
量可调整
DC电源800V 1000W 1台
衬底 直径3英寸、加热温度高于500℃ 轴向位移台 S=100
真空度 小于5X10-5Pa (镀膜室) 可选择抽气方式
工作气体 3路、质量流量计控制 根据需要可调整
准备室 真空度小于5X10-5Pa、传送机构、公用初级泵等
尺寸及电源 150(长)X120(宽)X180(高) CM 电源:单相 220V 60A

电子器件制备系统 (Electric Device Fabrication System) 详细指标款式欢迎咨询

电子器件制备系统

设备名称 小型电子器件制备系统 备注
型号 SOED-50-3 (热蒸发+磁控溅射+GB)  
蒸发室 210(ID)X300(H)mm, 表面喷砂 上盖自由开关
蒸发源 2套蒸发舟或钨丝,两套电源 蒸发源种类可更换
磁控靶电源 φ1.3”磁控靶,300W直流电源 1套 可选择射频电源
衬底 50×50 mm, 可选配加熱or水冷
真空度 小于5X10-5Pa 可选择抽气方式
手套箱(GB) 惰性气体循环(与蒸发室相连接) 箱体大小可选择
选配 膜厚仪等 根据需要可增配
尺寸及电源 180(长)X120(宽)X190(高) CM 电源:单相 220V 50A

电子束蒸发设备 (Electron Beam Evaporation) 详细指标款式欢迎咨询

电子束蒸发设备

设备名称 电子束蒸发设备(3连E型) 备注
型号 SEB-31-4  
蒸发室 330(ID)X600(H) mm, 电解抛光 外缠水冷管
电子枪 2KW 3连E型, 坩埚容量1ml 电子枪型号可调整
加熱器 石英灯加热、温度高于500℃ 可选择其它加热方式
衬底 φ2英寸 ,有挡板 衬底自转
真空度 小于7.5X10-6Pa 可选择抽气方式
膜厚計 在线监控膜厚 根据需要可调整
其它 快开门、观察窗、安全锁  
选配 准备室、辅助离子源等 根据需要选配
尺寸及电源 150(长)X120(宽)X190(高) CM 电源:单相 220V 50A

双离子源沉积系统 (Dual Ion Source Deposition System) 详细指标款式欢迎咨询

双离子源沉积系统

设备名称 双离子源沉积系统 备注
型号 AIBD-464-1 适用于低温成膜、致密
蒸发室 560(ID)X460(H)mm 电解抛光、外缠水冷管
溅射离子源 离子束1200V,363mA 考夫曼离子源
辅助离子源 离子束1200V,130mA 考夫曼离子源
4面6英寸方形靶,水冷结构 公转换靶
衬底 直径4英寸、加热温度高于500℃ 衬底自转、配自动挡板
真空度 小于5X10-5Pa 可选择抽气方式
选配 准备室,膜厚仪等 根据需要选配
尺寸及电源 240(长)X150(宽)X210(高) CM 電源:単相 200V 60A

VOC标准气体配制及测试系统 (VOC Standard Gas Generation System) 详细指标款式欢迎咨询

VOC标准气体配制及测试系统

设备名称 VOC标准气体配制及测试系统 备注
型号 ANPD-1B-12  
测试腔体 170(W)X80(D)X20(H)mm 材质SUS304,电解抛光
腔体加热 300℃,温度稳定,有过热保护 任意两点在线温度监测
加热器 柔性外套式加热器、最高400℃ 安装拆卸简单方便
配气设备 气体调制设备、渗透管、扩散管 可供选择多种配气管
特点 调制从ppb~ppm不同浓度的各种VOC标准气体和混合气体 特别适合一些不稳定VOC气体的连续配制
选配 尾气处理、检测管等 根据需要选配
尺寸及电源 150(长)X70(宽)X110(高) CM 电源:单相 220V 20A

真空感应溶解炉 (Vacuum Induction Melting Furnaces) 详细指标款式欢迎咨询

设备名称 真空感应溶解炉 备注
型号 AVMF-1-12  
溶解室 φ400(ID)×500(H)mm,前开门 材质SUS304,外壁水冷
溶解量 1kg 铁换算量
溶解温度 高于1700℃ 根据需要温度可以调整
溶解炉 铜制高频感应线圈,坩埚(材质可选择) 铸造模具(选配)
极限真空 小于5.0×10-3Pa 没有材料,除气后常温下
其它 真空抽气系统、高频感应加热电源、安全保护措施等
特点 本设备在真空或惰性气体气氛中,用感应加热来溶解、铸造各种金属或合金。
■设备紧凑性价比高,适合于研发。
■设备前面大型门窗,操作维护方便。
设置环境 安装尺寸:200(长)X200(宽)X180(高) CM
冷却水: 0.13~0.15MPa, 50L/min
电源: 三相 200V 20KVA